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刊名:环境技术
主办:中国电器科学研究院股份有限公司
主管:中国机械工业集团有限公司
ISSN:1004-7204
CN:44-1325/X
影响因子:0.189802
被引频次:9816
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统计源期刊(2018);期刊分类:环境与安全

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SK海力士开始量产采用EUV技术的第四代10纳米级

来源:环境技术 【在线投稿】 栏目:综合新闻 时间:2021-07-12

作者:网站采编

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【摘要】(全球 TMT,2021 年 7 月 12 日)SK 海力士宣布已于 7 月初开始量产采用第四代 10nm (1a) 工艺的 8Gigabit (Gb) LPDDR4 移动 DRAM 产品。 自从10纳米级DRAM产品问世以来,半导体行业将以英文字母命

(全球 TMT,2021 年 7 月 12 日)SK 海力士宣布已于 7 月初开始量产采用第四代 10nm (1a) 工艺的 8Gigabit (Gb) LPDDR4 移动 DRAM 产品。

自从10纳米级DRAM产品问世以来,半导体行业将以英文字母命名,SK海力士生产的1a纳米级工艺是继1x(第一代)、1y(第二代)、1z(第三代)之后的第四代工艺节点。该公司预计将于今年下半年开始向智能手机制造商供应采用 1a 纳米技术的移动 DRAM。

量产产品是SK海力士首款采用EUV技术量产的DRAM,意义重大。 SK海力士此前在1y纳米产品的生产中部分采用了EUV技术,并提前完成了对其稳定性的验证。

工艺极度小型化的趋势,促使半导体厂商陆续引进EUV设备,并投资于在晶圆上绘制电路的光刻工艺。业界认为,EUV 技术的采用水平将成为决定未来技术领先地位的重要因素。 SK海力士通过此次量产保证了EUV工艺技术的稳定性,并表示未来1a纳米级DRAM将采用EUV工艺生产。

SK海力士期待通过提高新产品的生产效率来确保更高的成本竞争力。与上一代1z纳米工艺的同规格产品相比,1a纳米DRAM每片晶圆上可生产的产品数量增加了约25%。在今年全球DRAM需求持续增长的背景下,该公司预计1a纳米DRAM将在全球存储半导体供需中发挥重要作用。

这款新品稳定支持LPDDR4移动DRAM规格的最高速度(4266Mbps),功耗也比上一代产品降低了20%左右。 SK海力士认为,这款新产品进一步强化了低功耗优势,为减少碳排放做出了贡献,充分体现了SK海力士注重ESG(环境、社会、公司治理)管理的精神理念。

继这款LPDDR4产品之后,SK海力士还计划从明年初开始将1a纳米级工艺引入去年10月推出的全球首款DDR5 DRAM。



文章来源:《环境技术》 网址: http://www.hjjszz.cn/zonghexinwen/2021/0712/1881.html


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